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半導體用濕式蝕刻劑
Wet Etching Agent Semiconductor Grade
- 高純度氫氟酸 High Purity Hydrofluoric Acid (DHF)
| 用途： |
晶圓洗淨、石英管洗淨、化學機械研磨後洗淨、混酸原料。 |
| 產能： |
45,000 MT/年 |
- 氟化銨 High Purity Ammonium Fluoride (NH4F)
| 用途： |
緩衝級氫氟酸混製原料。 |
| 產能： |
7,800 MT/年 |
- 緩衝級氫氟酸
High Purity Buffered Hydrofluoric Acid/With Surfactant (BHF/BHFU)
| 用途： |
圖樣化物之蝕刻、接觸孔蝕刻。 |
| 產能： |
1,800 MT/年 |
供給容器
- 200L Drum
- 2,000L Container
- 12,000L / 18,000L Container
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